【光源科普】半導(dǎo)體制造工藝與光刻膠
      
                
      
                    
      ?【光源科普】半導(dǎo)體制造工藝與光刻膠
      

      在半導(dǎo)體制造中，光刻膠用于光刻工藝中以在基板上形成電路圖案。
      

      制造過(guò)程主要包括以下步驟。
      

      ①清洗
      

      涂敷光刻膠前，應(yīng)徹底清洗基材，保持表面清潔。
      

      ②光刻膠的涂敷
      

      將光刻膠均勻地涂敷在基材上并干燥。
      

      此階段光刻膠的厚度和均勻性對(duì)后續(xù)圖形形成的精度有很大影響。
      

      ③曝光
      

      通過(guò)用紫外線照射光致抗蝕劑，在光致抗蝕劑上形成圖案。
      

      發(fā)射光的波長(zhǎng)和強(qiáng)度直接影響圖案的分辨率。
      

      ④顯影將曝光后的光刻膠
      

      用顯影劑進(jìn)行處理，除去不需要的部分。
      

      這使得設(shè)計(jì)的圖案出現(xiàn)在板上。
      

      ⑤蝕刻
      

      顯影后，以光刻膠圖案為掩模，通過(guò)蝕刻去除基板上不需要的部分。
      

      ⑥去除光刻膠
      

      最后，蝕刻完成后，去除光刻膠，進(jìn)入下一步。